यांग दहाई का मुख्य योगदान ई है कि, जापान मा पढ़ाई के उनके पृष्ठभूमि के कारण, यांग डोंगलिन के शोध समूह मा सौंपे जाय के बाद, उ अग्न्याशयिक मोनोमर के उत्पादन के लिए "प्रत्यक्ष विधि" सफलतापूर्वक विकसित किहिन।
ई प्रक्रिया जापानी मिथाइल क्लोरोसिलेन प्रक्रिया पथ कय अनुसरण करत है औ बहुत रिएक्टर शामिल है। प्रत्यक्ष विधि, जवन अब आमतौर पर तरल पदार्थ कय बिस्तर प्रक्रिया कय रूप मा उपयोग कीन जात है, 1950 मा संयुक्त राज्य अमेरिका मा जनरल मोटर्स कय जीई द्वारा पेटेंट कीन जात रहा।इन्वेंटर जर्मन रोचो रहा। सीधी पद्धति के सफल विकास से शेनिकल उद्योग के शेनिकल उद्योग का सबसे पहिले एक छोट स्टिरिंग बेड का उपयोग करै वाला रहा, जेहिसे सिलिकॉन मोनोमर्स के सीधे विधि उत्पादन के इतिहास का शुरू कीन गा