अवक्षेपित सिलिका और धुँआ वाले सिलिका के बीच मुख्य अंतर कण आकार और शुद्धता म झूठ है।
अवक्षेपित सिलिका आम तौर पर माइक्रोमीटर स्तर पर होत है, जबकि धुत सिलिका आम तौर पर नैनोमीटर स्तर पर होत है। अवक्षेपित सिलिका मा अशुद्धता कय मात्रा अधिक होत है औ आम तौर पै लगभग 93% कय शुद्धता होत है, जबकि धुँआधार सिलिका कय बहुत कम अशुद्धता कय सामग्री होत है औ एक शुद्धता होत है जवन 99% से अधिक तक पहुँच सकत है। कण आकार और शुद्धता म मह वपूण अंतर के कारण, धुत सिलिका आउटपरफॉर्म मोटेनिंग, थाइक्सोट्रोपिक, एंटी -सेटलिंग, रिफोर्सिंग, मै टंग और घर्षण प्रतिरोध म अवक्षेपित सिलिका से बाहर निकलता है।