गैस -फेज विधि से सिलिका कैसे पैदा होता है ?

एक और एक है गैस -फेज विधि, रासायनिक वाष्प जमाव (सीएवी) विधि, जेका पाइरोलाइसिस विधि, सूखी विधि या दहन विधि के रूप मा भी जाना जात है। यहिके कच्चा माल आम तौर पै सिलिकॉन टेट्राक्लोराइड, ऑक्सीजन (या हवा) औ हाइड्रोजन होत है, जवन उच्च तापमान मा प्रतिक्रिया करत है।

  The reaction equation is:      SiCl4+2H2+O2 - >एसीओ2+4 एच सी एल क... हवा और हाइड्रोजन क्रमशः दबाव, अलगाव, ठंडा और निर्जलीकरण, सिलिका जेल सूखा, धूल हटाने और निस्पंदन के अधीन होत है, जेहिका सिंथेटिक हाइड्रोलिसिस भट्ठी मा भेजा जात है। सिलिकॉन टेट्राक्लोराइड कय कच्चा माल कय आसवन कय लिए आसवन कॉलम मा भेजा जात है, ई वाष्पीकरण मा गरम औ वाष्पित कीन जात है, औ फिर वाहक कय रूप मा सूखी औ छाननी कय हवा कय साथ सिंथेटिक हाइड्रोलिसिस भट्ठी मा भेजा जात है। सिलिकॉन टेट्राक्लोराइड उच्च तापमान पर वाष्पीकृत किया जात है (फ्लेम तापमान 1000 -1800 डिग्री ) और फिर लगभग 1800 डिग्री पर एक निश्चित मात्रा म हाइड्रोजन और ऑक्सीजन (या हवा) के साथ गैस -फेज हाइड्रोलाइसिस से गुजरता है . इस बिंदु पर, गैस-चरण सिलिका कण उत्पन्न किए गए हैं, अत्यंत ठीक हैं और गैस के साथ एयरोसोल बनावत हैं, जेहिका कैप्चर करब मुश्किल है।

यहिसे, पहिले एक एग्रीगेटर मा बड़े कणन मा एकत्रित कीन जात है, फिर एक चक्रवात अलगावकर्ता द्वारा एकत्रित कीन जात है, अउर एक निर्मित भट्ठी मा भेजा जात है। गैस -फेज सिलिका नाइट्रोजन - युक्त हवा से धोया जात है जब तक कि पीएच मान 4 से 6 हो जात है, जो तैयार उत्पाद है